一(yī)、産品簡介

實際光學(xué)系統成像與理(lǐ)想光學(xué)系統成像之間的(de)差異稱為(wèi)像差，該參數主要用于評價光學(xué)系統的(de)成像質量；根據幾何光學(xué)的(de)觀點，光學(xué)系統的(de)理(lǐ)想狀況是點物成點像，即物空間一(yī)點發出的(de)光能量在像空間也集中在一(yī)點上，但由于像差的(de)存在，在實際中是不可(kě)能的(de)。評價一(yī)個光學(xué)系統像質優劣的(de)根據是物空間一(yī)點發出的(de)光能量在像空間的(de)分布情況。在傳統的(de)像質評價中，人們(men)先後提出了許多像質評價的(de)方法，其中用得最廣泛的(de)有(yǒu)分辨率法、星點法和(hé)陰影法（刀口法）。

光學(xué)系統像質評價工程上主要采用分辨率法和(hé)光學(xué)傳遞函數(MTF)測量法。分辨率法測量多用于大像差系統，實驗簡便直觀；MTF測量法适用于一(yī)些高(gāo)分辨率的(de)光學(xué)系統。以上兩種測量方法已廣泛應用于工程實踐中。

二、知識點

光學(xué)系統的(de)球差、彗差、場曲、象散、色差、分辨力、瑞利判據、光學(xué)傳遞函數（OTF）、調制傳遞函數（MTF）、線擴散函數、空間頻率、截止頻率、調制度、國(guó)标分辨力闆、焦距測量、鏡頭設計、星點法、刀口陰影法、剪切幹涉法

三、涉及課程

光學(xué)、幾何光學(xué)、工程光學(xué)、信息光學(xué)、應用光學(xué)、光學(xué)設計、光學(xué)系統設計、Zemax及在光電類課程中的(de)應用、光電檢測技術

四、實驗內(nèi)容

    1、  光學(xué)系統像差的(de)計算機(jī)模拟

    2、  平行(xíng)光管的(de)調整使用及薄透鏡焦距測量實驗

    3、  星點法觀測光學(xué)系統單色像差實驗

    4、  分辨力闆直讀法測量光學(xué)系統分辨率

    5、  利用變頻朗奇光栅測量光學(xué)系統MTF值實驗

    6、  基于線擴散函數測量光學(xué)系統MTF值

    7、  刀口儀陰影法原理(lǐ)及陰影法測量光學(xué)系統像差實驗（選配）

    8、  剪切幹涉測量光學(xué)系統像差實驗（選配）